發展真空離子電鍍技術

本會於1994年獲香港工業及科技發展局之「工業支援資助計劃」撥款,與香港生產力促進局合作發展及推廣先進的真空離子電鍍技術,研究於黃銅及鋼材多類製品表面提供不同顏色與光澤的裝飾性硬質表面鍍層 ,種類包括鈦(Ti),碳/氮化鈦(TiCx, TiNx, TiCxNy),金合金,氮化鈦鋁及碳化鈦鋁(TiAINx, TiAICxNy)等。

真空離子電鍍是將上述之鈦鋁材料經電場及電子槍之濺射,從靶轉移至製品基體表面上,與氮及碳之離子結合而形成緻密的、硬度高、耐磨損及抗腐蝕的硬質薄膜。經深入之評估及分析後,決定引進磁控濺射真空離子電鍍技術,有關設計如下:
  1. 鍍膜室(Coating Chamber)一內置標準極棒,加熱器,旋轉工作掛架,抽真空及磁控濺射設備等
  2. 系統控制器-包括控制組件及顯示器
  3. 輔件控制箱-磁控及高速分子真空泵等
  4. 電源箱

本計劃現已順利完成,並在多個行業如鐘表 、眼鏡、 珠寶首飾及功能性鍍層上推廣使用。

優點
  • 合乎環保效益
  • 減少揮發性有機物的散發
  • 水溶性清洗工序
  • 不含有毒化學廢料
  • 乾式鍍膜工序
  • 高性能及節省成本
  • 鍍膜有優良的機械性能
  • 容易形成複合鍍膜
  • 多種鍍膜顏色以供選擇